无需美国许可证！ ASML为中国开绿灯

在正在进行的第三届CIIE上，光刻机巨头ASML也参加了展览，并在其展位上展示了DUV光刻机。据报道，ASML之所以没有展示新的EUV光刻机，主要是因为它们仍然无法向中国出口EUV光刻机，而这次展示的DUV光刻机可以生产7纳米及以上的工艺芯片。
ASML这次还带来了其整体光刻解决方案，包括光刻机的先进控制功能，可通过建模，仿真，分析和其他技术来计算光刻和测量，从而不断提高边缘定位的准确性。在此之前，ASML首席财务官Roger Dassen在财务报告会议上的视频采访中与中芯国际（SMIC）等中国客户讨论了业务状况。
他说，在某些情况下，出口光刻机不需要许可证。罗杰·戴森（Roger Dassen）指出，ASML了解美国当局当前的法规及其解释。
当然，他们也知道这些与特定的中国客户密切相关。但是，如果您对ASML（针对特定的中国客户）大致了解其规则和法规的整体含义，这意味着ASML将能够在没有出口许可证的情况下向荷兰的这些中国客户提供DUV光刻系统。
美国仅限制美国向中国出口芯片，光刻机等，但不限制其他国家向中国进口。荷兰不在美国禁令范围之内。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。 DUV光刻机分为两种：干馏和液浸。
其中，液浸型诞生于ASML。尽管其波长为193nm，但等效于134nm。
多次曝光后，液浸光刻机也可以达到7nm工艺。但是，每增加一次曝光都会大大增加制造成本，并且良率也难以控制。
EUV光刻机使用波长为13.5nm的光源，这是突破10nm芯片工艺节点必不可少的工具。换句话说，即使DUV（深紫外线）光刻机可以在没有ASML的EUV光刻机的情况下找到尼康和佳能的替代品，芯片巨头台积电，三星和英特尔的5nm生产线也无法实现。
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